牡丹江挖懊酒店有限公司

1
新聞中心

高功率脈沖是多少赫茲

在工業(yè)領域,像高功率脈沖激光加工設備,為實現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理,其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時,幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質量的同時,有效控制熱影響區(qū)域,防止板材因過熱變形。

反應氣體的選擇和配比如何影響真空鍍膜的成分和性能?

  在化學氣相沉積(CVD)真空鍍膜中,反應氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手,對鍍膜的成分和性能起著決定性作用。

在光學鍍膜應用中,如何通過控制膜層厚度和折射率來實現(xiàn)特定的光學性能

設備精度保障:使用高精度的鍍膜設備,如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設備,其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監(jiān)測儀,實時反饋膜層生長情況,控制提供硬件基礎。

如何選擇適合的真空鍍膜材料?

光學性能需求:若要提高鏡片的透光率,可選擇二氧化硅(SiO?)、二氧化鈦(TiO?)等具有特定折射率和低吸收特性的材料來制作增透膜。若是制備光學反射鏡,則可選用鋁(Al)、銀(Ag)等具有高反射率的金屬材料。

真空鍍膜材料有哪幾種

在工業(yè)生產中,滾筒輸送流水線發(fā)揮著重要作用,但長時間運行后,難免會出現(xiàn)一些故障,影響生產效率。了解常見故障及解決辦法,能有效保障生產的順利進行。

光學膜層厚度的控制方法

在光學薄膜的制備過程中,控制膜層厚度至關重要,它直接影響到薄膜的光學性能,比如反射率、透射率以及特定波長的選擇透過性等。以下是幾種常見的光學膜層厚度控制方法。

高功率脈沖磁控濺射HiPIMS的獨特優(yōu)勢與多樣化應用

高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)作為一種薄膜制備技術,近年來在材料科學與工程領域嶄露頭角。HiPIMS通過在傳統(tǒng)磁控濺射基礎上施加高功率脈沖電源,實現(xiàn)了對濺射過程的控制,從而展現(xiàn)出一系列獨特優(yōu)勢。

納米鍍膜關鍵技術難點有哪些?

    納米鍍膜技術以其獨特的優(yōu)勢在眾多領域展現(xiàn)出廣闊的應用前景,然而,其發(fā)展過程中也面臨著諸多關鍵技術難點。